全⾃动磁控溅射系统-共溅射

• 本底真空：10^-7 Torr到10^-8 Torr； 

 • 单基⽚设计，尺⼨可定制，常规尺⼨2～6英⼨； 

 • 基⽚可旋转并加热：300℃/500℃/800℃； 

 • 最多可拓展8⽀磁控溅射靶枪，可多靶共溅射； 

 • 靶枪⻆度可调，溅镀距离可调，可选强磁靶； 

 • 可选配多路⽓路； 

 • 防交叉污染隔板设计； 

 • 可配备离⼦束辅助沉积；

 • 可配备样品预清洗功能；

 • 可配备快速进样室；

 • 可配备⾃动压⼒控制系统；

其他特点

 • 样品台整体包裹，防⽌加热器被镀膜

 • 最多可安装6个磁控溅射靶枪

 • 样品台：最⼤可达8英⼨ 

 • 样品台加热，旋转／偏压／⾃清洗均可选 

 • 全⾃动操作，⽀持⼀键抽⽓，⼀键⼯艺 

 • 多种⽓路可选，多种⽓体供应⽅式 

 • 靶枪独⽴供⽓，环形分布供⽓ 

 • 靶枪⽔冷，⽔流量监控