全⾃动磁控溅射系统--多⼯位 

 • 本底真空：10^-7 Torr到10^-8 Torr； 

 • 单基⽚设计，尺⼨可定制，常规尺⼨2～6英⼨； 

 • 基⽚可旋转并加热：300℃/500℃；

 • 最多可安装6⽀磁控溅射靶枪；

 • 镀膜距离可调，可选强磁靶；

 • 可选配多路⽓路；

 • 防镀膜隔板设计；

 • 可配备样品预清洗功能；

 • 可配备快速进样室；

 • 可配备⾃动压⼒控制系统

其他特征

 • ⾏星式分布样品台，最多可同时放6⽚

 • 样品盘公转，每个样品可以⾃转

 • 连续运动镀膜，固定位置镀膜

 • 可适应⼩批量⽣产

 • 样品台背部加热器设计

 • 多种⽓路可选，多种⽓体供应⽅式

 • 靶枪独⽴供⽓，环形分布供⽓

 • 靶枪⽔冷，⽔流量监控