超⾼真空磁控溅射系统

 • 本底真空：10^-8 Torr到10^-9 Torr；

 • 单基⽚设计，尺⼨可定制，常规尺⼨2～6英⼨；

 • 基⽚可旋转并加热：300℃/500℃/800℃；

 • 最多可安装8⽀磁控溅射靶枪；

 • 镀膜距离可调，可选强磁靶；

 • 可选配多路⽓路；

 • 可配备样品预清洗功能；

 • 可配备快速进样室；

 • 可配备⾃动压⼒控制系统；

 • 主要应⽤领域：磁性材料，超导，⾃旋电⼦学

其他特征

 • 靶枪独⽴供⽓系统，环形供⽓环；

 • 磁性靶枪设计；

 • 整体烘烤罩；

 • 磁性驱动，样品台没有漏⽓