⽴式磁控溅射系统 

 • 本底真空：10^-7 Torr到10^-8 Torr； 

 • 单基⽚设计，尺⼨可定制，常规尺 ⼨370 x 470 mm； 

 • 基⽚可加热：300℃/500℃； 

 • 每个腔体最多安装2个靶枪； 

 • 腔体可⽆限延伸； 

 • 防镀膜隔板设计；

 • 可配备样品预清洗功能；

 • 可配备快速进样室；

 • 全⾃动控制系统； 

 • 可选配样品回流装置，应⽤于⼩批 量⼯业⽣产

其他特征

 • 腔体为 SUS304 镜⾯钢板，焊道处理完后

 • 使⽤超⾳波清洗，并电解抛光，减少腔体液⽓量

 • 腔体冷却⽔路设计，防⽌腔体热变形及防⽌O-ring因过热⽽减少寿命

 • 2000W 直流电源，1000W射频电源

 • 传送基板有定位感测器

 • 可调整传送速度