热蒸发镀膜系统

把待镀膜的基⽚或⼯件置于真空室内，通过对镀膜材料加 热使其蒸发⽓化⽽沉积于基⽚或⼯件表⾯并形成薄膜的⼯艺 过程，称为真空蒸发镀膜，简称蒸发镀膜或蒸镀。 

技术参数

 ‣ 本底真空10-7Torr 

 ‣ 束源炉，坩埚，蒸发⾈等

 ‣ ⽯英晶振测量膜厚

 ‣ 基⽚加热温度可选：300℃/500℃/850℃

 ‣ 可配备离⼦束辅助沉积

 ‣ 可配备快速进样室

 ‣ 可与⼿套箱集成