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PEALD-等离子增强原子层沉积
    发布时间: 2022-04-02 23:20    
PEALD-等离子增强原子层沉积


原⼦层沉积是⼀种可以将物质以单原⼦膜形式⼀层 ⼀层的镀在基底表⾯的⽅法。原⼦层沉积与普通的化 学沉积有相似之处。但在原⼦层沉积过程中,新⼀层 原⼦膜的化学反应是直接与之前⼀层相关联的,这种 ⽅式使每次反应只沉积⼀层原⼦


产品特点

 ‣ 不锈钢腔体设计

 ‣ 进⼝⾼速ALD薄膜阀⻔

 ‣ 最⼤12英⼨基⽚

 ‣ 基⽚最⾼加热400℃

 ‣ 最多可拓展6路前驱物管路

 ‣ 前驱物管路全⾦属密封,并可加热

 ‣ 可提供前驱体钢瓶加热或冷却装置