EVG610具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，支持尺寸从碎片到蕞大150毫米。

该设备支持多种标准光刻工艺，例如真空环境，软/硬和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还为用户提供了多项可选附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。EVG610设备提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。

对于压印工艺，EVG610允许基板的尺寸从小芯片尺寸到直径150毫米不等。纳米技术应用的配置除了可编程的高/低接触力外，还可以包括印章释放机制。EVG设备专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产能的压印，该卡盘设计既支持软印章也支持硬印章。

产品特点：

1) 顶部和底部对准能力

2) 高精度对准台

3) 自动楔形误差补偿机制

4) 电动和菜单控制的曝光间隙

5) 支持最新的UV-LED技术

6) 较小的占地面积和设施要求

7) 分步流程指导

8) 远程技术支持

9) 多用户概念（可设立多用户帐户和菜单，可分配访问权限以及用户界面语言）

Options

1) 键对准

2) 红外对中

3) 纳米压印光刻

4) 微接触印刷

主要技术指标

1) 晶圆直径（基板尺寸）

2) 标准光刻：碎片最大150毫米

3) 软UV-NIL：最大150毫米的碎片

4) 解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

5) 支持流程：柔软的UV-NIL

6) 曝光源：汞光源或紫外线LED光源

7) 工作印章制作：外部